JIS K5215-1971 枣红10B
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【英文标准名称】:Bordeaux10B
【原文标准名称】:枣红10B
【标准号】:JISK5215-1971
【标准状态】:作废
【国别】:日本
【发布日期】:
【实施或试行日期】:
【发布单位】:日本工业标准调查会(JISC)
【起草单位】:Abolishment
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:磺酸;钡;萘胺;萘甲酸;偶氮化合物;钙有机化合物;镁有机化合物;颜料
【英文主题词】:naphthylamine;;naphthoicacid;;calciumorganiccompounds;magnesiumorganiccompounds;
【摘要】:
【中国标准分类号】:G54
【国际标准分类号】:87_060_10
【页数】:2P;A4
【正文语种】:日语
【英文标准名称】:SpecificationforStructuralSteelBuildings
【原文标准名称】:结构钢建筑物的规范
【标准号】:ANSI/AISC360-2010
【标准状态】:现行
【国别】:美国
【发布日期】:2010
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国国家标准学会(US-ANSI)
【起草单位】:ANSI
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:建筑物;设计;安装;制作;结构金属加工;结构钢
【英文主题词】:Buildings;Design;Erection;Fabrication;Structuralmetalwork;Structuralsteels
【摘要】:ThisSpecificationprovidescriteriaforthedesign,fabrication,anderectionofstructuralsteelbuildingsandotherstructures,whereotherstructuresaredefinedasthosestructuresdesigned,fabricated,anderectedinamannersimilartobuildings,withbuilding-likeverticalandlateralloadresistingelements.
【中国标准分类号】:P26
【国际标准分类号】:91_080_10
【页数】:
【正文语种】:英语
【英文标准名称】:StandardTestMethodforTraceMetallicImpuritiesinElectronicGradeAluminum-Copper,Aluminum-Silicon,andAluminum-Copper-SiliconAlloysbyHigh-Mass-ResolutionGlowDischargeMassSpectrometer
【原文标准名称】:用高质量减少辉光放电质谱仪测量电子级铝铜、铝硅和铝铜硅中微量金属杂质的标准试验方法
【标准号】:ASTMF1845-2008
【标准状态】:现行
【国别】:美国
【发布日期】:2008
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.17
【标准类型】:(TestMethod)
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:aluminum;aluminum-copperalloys;aluminum-copper-siliconalloys;aluminum-siliconalloys;electronics;glowdischargemassspectrometer(GDMS);purityanalysis;sputteringtarget;tracemetallicimpurities;Impurities--electronicmaterials/applications;
【摘要】:Thistestmethodisintendedforapplicationinthesemiconductorindustryforevaluatingthepurityofmaterials(forexample,sputteringtargets,evaporationsources)usedinthinfilmmetallizationprocesses.Thistestmethodmaybeusefulinadditionalapplications,notenvisionedbytheresponsibletechnicalcommittee,asagreeduponbetweenthepartiesconcerned.ThistestmethodisintendedforusebyGDMSanalystsinvariouslaboratoriesforunifyingtheprotocolandparametersfordeterminingtraceimpuritiesinaluminum-copper,aluminum-silicon,andaluminum-copper-siliconalloys.Theobjectiveistoimprovelaboratory-to-laboratoryagreementofanalysisdata.ThistestmethodisalsodirectedtotheusersofGDMSanalysesasanaidtounderstandingthedeterminationmethod,andthesignificanceandreliabilityofreportedGDMSdata.Formostmetallicspeciesthedetectionlimitforroutineanalysisisontheorderof0.01wt.ppm.Withspecialprecautions,detectionlimitstosub-ppblevelsarepossible.Thistestmethodmaybeusedasarefereemethodforproducersandusersofelectronic-gradealuminum-copper,aluminum-siliconandaluminum-copper-siliconmaterials.1.1Thistestmethoddeterminestheconcentrationsoftracemetallicimpuritiesinhighpurity(99.99wt.%pure,orpurer,withrespecttometallictraceimpurities)aluminum-copper,aluminum-siliconandaluminum-copper-siliconalloyswithmajoralloyconstituentsasfollows:
aluminum
Greaterthan95.0%
copper
Lessorequalthan5.0%
silicon
Lessorequalthan5.0%
